La limpieza láser es el uso de rayos láser con alta densidad energética, dirección controlable y fuerte capacidad de convergencia para destruir la fuerza de unión entre contaminantes y la matriz o evaporar directamente contaminantes, purificar y reducir contaminantes. La fuerza de unión con la matriz, a su vez, logra el efecto de limpiar la superficie de la pieza de trabajo. Cuando los contaminantes en la superficie de la pieza absorben la energía del láser, se evaporan rápidamente o se expanden inmediatamente después de calentarse para superar la fuerza entre los contaminantes y la superficie del sustrato. Debido al aumento de la energía de calentamiento, las partículas contaminantes vibran y se desprenden de la superficie del sustrato.
Todo el proceso de limpieza láser se divide aproximadamente en cuatro etapas, a saber, descomposición por evaporación láser, desprendimiento láser, expansión térmica de partículas contaminantes, vibración de la superficie del sustrato y separación de contaminantes. Por supuesto, al aplicar la tecnología de limpieza láser, también se debe prestar atención al umbral de limpieza láser del objeto a limpiar y seleccionar la longitud de onda láser adecuada para lograr el mejor efecto de limpieza. La limpieza láser puede cambiar la estructura cristalina y la orientación de la superficie del sustrato sin dañar la superficie del sustrato, y también puede controlar la rugosidad de la superficie del sustrato, mejorando así el rendimiento general de la superficie del sustrato. El efecto de limpieza se ve afectado principalmente por las características del haz, los parámetros físicos del sustrato y el material de suciedad, y la capacidad de la suciedad para absorber la energía del haz.
En la actualidad, la tecnología de limpieza láser incluye tres métodos de limpieza: la tecnología de limpieza láser seca, la tecnología de limpieza láser húmeda y la tecnología de onda de choque de plasma láser.
1. la limpieza láser seca se refiere a la limpieza de la pieza de trabajo por irradiación directa de láser pulsado, de modo que los contaminantes del sustrato o la superficie absorben energía y la temperatura aumenta, lo que resulta en expansión térmica o vibración térmica del sustrato, separando así los dos. Este método se puede dividir aproximadamente en dos casos: uno es la expansión del láser de absorción de contaminantes superficiales; El otro es que el sustrato absorbe el láser para producir vibraciones térmicas.
2. la limpieza láser húmeda consiste en precotizar una película líquida en la superficie antes de irradiar la pieza con láser pulsado. Bajo la acción del láser, la temperatura de la película líquida aumenta rápidamente y se evapora. En el momento de la evaporación, se produce una onda expansiva, que actúa sobre las partículas contaminantes. Para que se desprenda de la base. Este método requiere que el sustrato y la película líquida no reaccionen, por lo que el alcance del material aplicado es limitado.
3. la onda de choque de plasma láser es una onda de choque de plasma esférico producida durante la irradiación láser descomponiendo el medio de aire. La onda expansiva actúa sobre la superficie del sustrato a limpiar, liberando energía para eliminar contaminantes; El láser no actúa sobre el sustrato, por lo que no causará daños al sustrato. La tecnología de limpieza de ondas de choque de plasma láser ahora puede limpiar contaminantes de partículas con un tamaño de partícula de decenas de nanómetros, y la longitud de onda del láser no está limitada.
En la producción real, se deben seleccionar diferentes métodos de prueba y parámetros relacionados según sea necesario para obtener piezas de limpieza de alta calidad. En el proceso de limpieza láser, la eficiencia de la limpieza de la superficie y la evaluación de la calidad son indicadores importantes que determinan la calidad de la tecnología de limpieza láser.
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