1）ポンプ方法による：それは電気ポンプ、光ポンプ、化学ポンプ、熱ポンプと核ポンプレーザーに分けることができる。電気ポンプレーザとは、電流により励起されるレーザ（ガスレーザはガス放電により励起されることが多いが、半導体レーザは電流注入により励起されることが多い）、光ポンプレーザとは、光ポンプによって励起されるレーザ（ほとんどの固体レーザはガス放電によって励起される）を指す。レーザと液体レーザは共に光ポンプレーザであり、半導体レーザは光ポンプレーザのコアポンプ源である）、化学ポンプレーザとは、化学反応によって放出されたエネルギーを用いて作動物質を励起するレーザを指す。
2）動作モード：連続レーザとパルスレーザに分けることができる。CWレーザ中の各エネルギー準位の粒子数とキャビティ中の放射場は安定した分布を持っている。その動作特性は、作動材料の励起及び対応するレーザ出力が長時間にわたって連続的に安定した方法で連続的に行うことができるが、熱効果である。はっきりしたパルスレーザとは、レーザパワーが一定値に保持され、レーザ光が不連続に出力される時間をいう。その主な特徴はピーク電力が高く、熱効果が小さく、制御性が良いことである。パルス時間の長さに応じて、ミリ秒、マイクロ秒、ナノ秒、ピコ秒、フェムト秒にさらに分けることができます。パルス時間が短いほど、シングルパルスエネルギーが高くなり、パルス幅が狭くなり、加工精度が高くなります。
3）出力電力：低電力（0-100 W）、中電力（100-1000 W）、高電力（1000 W以上）に分けられ、異なる電力のレーザは異なる応用シーンに適用される。
4）波長に応じて：赤外レーザ、可視光レーザ、紫外レーザ、深紫外レーザなどに分けることができる。構造の異なる物質は異なる波長の光を吸収することができるので、異なる波長のレーザが異なる材料または異なる応用シーンを精密加工する必要がある。赤外レーザと紫外レーザは最も広く使用されている2種類のレーザである：赤外レーザは主に「熱処理」に用いられ、材料表面の物質を加熱し蒸発（蒸発）して材料を除去する、ウエハ切断、有機ガラス切断/ドリル/マーキングなどの分野では、高エネルギー紫外線光子は非金属材料表面の分子結合を直接破壊し、分子と物体を分離させる。「冷間加工」については、紫外レーザーは微細加工の分野でかけがえのない利点を持っている。
紫外光子のエネルギーが高いため、外部励起源を通じて一定の高出力連続紫外レーザを生成することは難しい。そのため、紫外レーザーは一般的に結晶材料の非線形効果周波数変換方法によって生成される。そのため、工業分野で広く使用されている紫外レーザは主に固体紫外レーザである。レーザ光
5）利得媒体別：固体（固体、光ファイバ、半導体など）、気体、液体、自由電子レーザなど。レーザは、①液体レーザと気体レーザに分けられ、効率が低いため、高周波交換作業材料とメンテナンスが必要で、現在はその特別な財産だけを利用して、ニッチ市場に応用している；②現在の自由電子レーザ技術はまだ十分ではない。周波数が連続的に調整でき、スペクトル範囲が広いという利点があるが、短期的には広く応用することは難しい。
③ソリッドステートレーザは現在最も広く使用されており、市場シェアが最も高い。これらは通常、結晶を作動材料とする固体レーザと、ガラス繊維を作動材料とする（過去20年間、電気光学変換効率とビーム品質の考慮により、盛んに発展した）ファイバレーザに分けられ、現在はポンプ源としてキセノンフラッシュランプなどの少量のランプが使用されている。そしてそれらの多くはポンプ源として半導体レーザを用いている。半導体レーザは、半導体材料をレーザ媒体として用いたレーザダイオードであり、電流注入ダイオードの活性領域をポンプ方法としている（光は電子被曝により発生する）。電気光学変換効率が高く、体積が小さく、寿命が長いという特徴がある。固体レーザでもあるが、光ビーム品質が悪いため、半導体レーザが直接発生する光は直接応用分野で制限されている。複数のシーン。
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